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英文字典中文字典相關資料:
イオンビームスパッタリングとマグネトロンスパッタリングの違いは何ですか?適切なPvd技術の選択
イオンビームとマグネトロンスパッタリングの主な違い(プラズマの位置、膜質、成膜速度、用途への適合性)を探る。
イオンビームスパッタ装置 アシストビーム製膜 と 高真空(10-2 Pa)スパッタ製膜
イオンビームスパッタでは、マグネトロンスパッタのようにターゲット近傍で発生したプラズマを使う装置上の制約がなく、プラズマ発生位置と製膜領域とを分けることができます。
OPTOMAN社・イオンビームスパッタ装置紹介 ::::: ピックアップ製品:::サンインスツルメント株式会社
マグネトロンスパッタリング(MS)、イオンビームアシスト蒸着(IAD)、電子ビーム蒸着(EBE)は、スループット、プロセス制御、コーティング品質の間でそれぞれ異なるトレードオフを示します。
スパッタ装置、マグネトロンスパッタの原理 | 株式会社真空デバイス
このページでは、弊社製品で主に使われているマグネトロンスパッタの原理と、そのほかの代表的なスパッタ法について簡単に解説をしております。
マグネトロンスパッタリングの原理と問題 | 株式会社トヤマ
従来型のマグネトロンスパッタリング法はシンプルな装置構造をしており、様々な材料の薄膜を比較的容易に形成できることから薄膜形成に広く用いられています。
イオンビームスパッタリングの究極ガイド - チタンとスパッタリングターゲット
マグネトロンスパッタリング装置は比較的シンプルで低コストですが、イオンビームスパッタリング装置は複雑で高価です。
イオンビームスパッタリング装置 | IIPT
IBSはイオンビームによってターゲットの物質をスパッターして、ターゲットに対向しておかれた基板の上にその物質を薄膜として堆積させる方法です。
イオンビームスパッタ装置 | 福岡工業大学 総合研究機構
Arを加速してターゲットにぶつけることでターゲット原子をはじき飛ばし(スパッタし),試料表面に薄膜として堆積させる装置です.
イオンビームスパッタリング:技術と応用の説明
これには、真空の生成、真空溶接、真空コーティング(蒸発装置、マグネトロンスパッタリング、イオンコーティング、プラズマ化学蒸着など)、真空中での接着剤の塗布と充填、真空中での物質の精製などが含まれます。
イオンスパッタリング 原理 – マグネトロンスパッタリング法 – Green Ems Library
集束イオンビーム装置は、きわめて細く集束したイオンビームを試料表面で走査することにより、発生した二次電子などを検出して顕微鏡像を観察したり、試料表面を加工したりすることのできる装置です。
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